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UV光催化氧化設備工作原理:
本產品利用高能高臭氧UV紫外線光束分(fèn)解空(kōng)氣中的氧分子(zǐ)產(chǎn)生遊離氧,即活(huó)性氧,因遊離氧所攜正負電子不平衡所以需(xū)與氧分子結合,進(jìn)而(ér)生成臭氧;
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧與呈遊(yóu)離狀態汙染物質原子聚合,生成新的、無害或低害物質,如CO2、H2O等。同時在汙染體(tǐ)係中(zhōng)投(tóu)加(jiā)一定量(liàng)的光敏半導體材料,結合一定量的光輻射,使光敏半導體在光的照射下激發產生電子-空穴對,吸附在半導體上(shàng)的溶解氧、水分子等(děng)與電子-空穴作用,產(chǎn)生(shēng)·HO等氧化性很強的自由基,再通過與汙染物之間的羥基加和、取代、電子轉移等式(shì)汙染物全部或接近全部氧化。
作(zuò)用過程:
刺激性氣味氣體利用排風設備輸入到UV光解淨化設備後,淨化設備運用高(gāo)能UV紫外線光(guāng)束及臭氧對惡臭氣體進行(háng)協同裂解、氧(yǎng)化反應,使(shǐ)惡臭氣體(tǐ)物質其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧(yǎng)化碳,再通過排風管道排出室外。
產品特點:
本產品利用特製的高能高臭氧UV紫外(wài)線光束照射惡臭氣體物質分子鍵,裂解刺(cì)激(jī)性臭味氣體物質如:氨(ān)、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鍵,在半導體催化劑(jì)的作用下,使呈遊離狀態的(de)汙染物(wù)原子與臭氧氧化聚合成小分(fèn)子無害或低害物質(zhì),如CO2、H2O等。利用高(gāo)能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞(huài)細菌的核酸(DNA),再通過臭氧,在半導體催化(huà)劑的作(zuò)用下,進行催化氧化反應(yīng),達到脫臭及殺滅(miè)細(xì)菌的目的。
UV光催化(huà)氧化設備產品(pǐn)性能:
高 效除惡臭:能去除揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要汙(wū)染物,以及各(gè)種(zhǒng)惡臭味,脫臭效(xiào)率高,脫臭效果(guǒ)大大超過國家1993年頒布的(de)惡臭汙染物排放標準(GB14554-93)。
適應性強:可適應(yīng)高濃度,大氣量(liàng),不同惡臭氣體物質的脫臭淨化(huà)處理(lǐ),可每天24小時連續工作,運行穩定可靠(kào)。
運行成本低:本設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理和(hé)日常維(wéi)護,隻需作定期檢查,本(běn)設備(bèi)能耗低,設備風(fēng)阻低,可節約(yuē)大量排(pái)風動力能耗。
無(wú)需溫濕度處(chù)理:惡(è)臭氣體無需進行特(tè)殊的預處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環境溫度(dù)在攝氏-30°-95°之間,濕度在(zài)40%-98%之間均可正常工作。
設備占地麵(miàn)積小,自重輕:適合於布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
材料製造:防火、防腐蝕性能高,性(xìng)能穩定,使用壽命長。
環保高科技產品:采用先進技術理念(niàn),通過專家及我公司工程技術人員長期反複的試驗,開發研製出(chū)的(de),可分解(jiě)惡臭氣體中有毒有害物質,並能達(dá)到脫臭效果,經分解後的惡臭氣體,可達到(dào)無害化排放,不產生二次汙染(rǎn),同時達到消毒殺菌(jun1)的作用。