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UV光催化氧化設備工（gōng）作原理：
本產品利（lì）用高能高臭（chòu）氧（yǎng）UV紫外線光束分解空（kōng）氣中的氧分子產（chǎn）生遊離氧，即活性氧，因遊離氧所攜正負（fù）電子不平衡所以需與（yǔ）氧分子（zǐ）結合，進（jìn）而生成臭氧；
UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，臭氧與呈遊離狀態汙染物質原子（zǐ）聚合，生成新的、無害或低害物質，如CO2、H2O等。同時在汙染體係中投（tóu）加一定（dìng）量的光敏半導體材料，結合一（yī）定量的光輻射，使光敏（mǐn）半導體在光的照射下激發（fā）產生電（diàn）子-空穴對，吸附在半導體上的溶（róng）解氧、水分子等（děng）與電子-空穴作用，產生（shēng）·HO等氧化性極強的自由基，再通過與汙染物之間的羥基加（jiā）和、取代、電子轉移等式汙染物全部或接近全部氧化。
作用過程：
刺激性氣味氣體利用排風設備輸入到UV光解淨化（huà）設備後，淨化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧（yǎng）對惡臭氣體進行協同裂解、氧化反應，使惡（è）臭氣（qì）體物質（zhì）其降解轉（zhuǎn）化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排（pái）風管道排出室外。
UV光催化氧化設備產（chǎn）品特點：
本產品利用特製的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡（è）臭氣體物質分子鍵，裂解刺激（jī）性臭味氣體物（wù）質如：氨、硫化氫、甲硫氫（qīng）、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫（liú）化碳和苯乙烯（xī），硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯（běn）、二甲苯的分子鍵，在半導體催化劑的作用下，使呈遊（yóu）離狀態的汙（wū）染（rǎn）物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質（zhì），如CO2、H2O等。利用高能（néng）UV光束裂（liè）解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的（de）核酸(DNA)，再通過臭氧，在半導體催化劑的作用下，進行催化氧化反應，達（dá）到脫臭及殺滅細菌的目的。
產品性能：
高 效除惡臭：能（néng）高 效去除（chú）揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫（liú）醇類等主要汙染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高（gāo），脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭汙染物排放標準（GB14554-93）。
適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭淨化處理（lǐ），可每天24小時連續工作，運行穩定（dìng）可靠。
運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人（rén）管理（lǐ）和日常維護，隻需作定（dìng）期檢（jiǎn）查，本設備能耗低，設備風阻低，可節約大量排風（fēng）動力能耗。
無需（xū）溫濕度處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環（huán）境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度（dù）在40%－98%之間均可正常（cháng）工作。
設備占地麵（miàn）積小，自重輕：適合於布置緊（jǐn）湊、場地（dì）狹小等特殊條件。
進（jìn）口材料製造：防火、防腐蝕（shí）性能高，性能穩定，使用壽命長（zhǎng）。
環保（bǎo）高科技產品：采用國際（jì）上技（jì）術理念，通過專家及（jí）我公司工程技術人員長期反複的試驗，開發研製出的，可分解惡臭氣體中有（yǒu）毒（dú）有害物質，並能（néng）達到脫臭效（xiào）果，經分解後的（de）惡臭氣體（tǐ），可達到無害化排放，不產生二次汙染，同（tóng）時達到高 效消毒殺菌的作用。
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