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淨化原理
廢氣在設備(bèi)內通過(guò)具有一定能量的光(guāng)照(zhào)射,光(guāng)敏半導體材(cái)料即被(bèi)光激發出電子 - 空穴對,吸附在 光敏(mǐn)半導體表麵的溶(róng)解氧、水及(jí)汙染物分子接受光生電(diàn)子或空穴,從而發生一係列的氧化還原反應,使汙染物降(jiàng)解為二(èr)氧化碳和(hé)水等(děng)物質。在外加紫外線的作用下(xià),介質放電產生(shēng)大(dà)量攜(xié)能電子轟擊汙染物分 子,使其電離、解離和激發,然後(hòu)便引發(fā)一係列(liè)複雜的物(wù)理(lǐ)、化學反應,使複雜的(de)大分子汙染物轉變為 簡單小分子安全物質,從而使汙染物得以降解去除(chú)。然後極小部分未被裂解(jiě)的汙染物(wù)進入活(huó)性炭吸附床, 有機汙染物被吸附於活性炭的微孔(kǒng)之中,最(zuì)終排放潔淨的氣體。
規格參數表
產品(pǐn)性能
高效除(chú)惡臭:能高效去除揮(huī)發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要汙染物,以及各種惡臭味,脫臭效率高,脫臭效果超過國(guó)家1993年頒布的惡臭汙染物排放標準(GB14554-93)。
適(shì)應性強:可適應高(gāo)濃度,大氣量,不同惡臭氣體物(wù)質的脫臭淨化處理,可每天24小時連(lián)續工(gōng)作,運行穩定可靠。
運行成本(běn)低:本設備無任何機械動作,無噪音(yīn),無需(xū)專人管理(lǐ)和日常維護,隻需作定期檢查,本(běn)設備能(néng)耗低,設備(bèi)風阻低,可節約大量排風動力能耗。
無(wú)需溫濕(shī)度處理(lǐ):惡臭氣體無需進(jìn)行特殊的預處理,如(rú)加溫、加濕等,設備工作環境溫度在攝氏-30°-95°之(zhī)間,濕度在40%-98%之間均可正常工作。
設備占地麵積小,自重輕:適合於布置緊湊、場地狹(xiá)小等特殊條(tiáo)件。
較優質材料製造:防火、防腐蝕性能高,性能穩(wěn)定(dìng),使用壽命長。
環(huán)保高科技產品:通過(guò)專(zhuān)家及我(wǒ)公司工程技術人員(yuán)長期反(fǎn)複的(de)試驗,開(kāi)發研(yán)製出的,可分解惡(è)臭氣體中有毒有害物(wù)質,並能達(dá)到想要的脫臭效(xiào)果,經(jīng)分解後的惡(è)臭氣體(tǐ),可達到無害化排放,不產生(shēng)二次汙染,同時達到高效消毒殺菌的作用。