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淨化原理
廢（fèi）氣在設備內（nèi）通過具有一定能量的光照射，光敏半導體材料即被光激發（fā）出電子 - 空穴對，吸附（fù）在 光敏半導體表麵的溶解氧（yǎng）、水（shuǐ）及（jí）汙染物分子接受光生電子或空穴，從而發生一係列（liè）的氧化還原反應，使汙染物降解為二氧（yǎng）化碳和水等物質。在外加紫外線（xiàn）的作用下，介質放電產生大（dà）量攜（xié）能電子轟擊汙染物分 子，使其（qí）電離、解離和激發，然後（hòu）便引（yǐn）發一係列複雜的物理、化學反應，使複雜的大分子汙染物轉變（biàn）為 簡單小分（fèn）子安全（quán）物質，從而使汙染物得以降（jiàng）解去除。然後極小（xiǎo）部分未被裂（liè）解的汙（wū）染物進入活性炭（tàn）吸（xī）附床， 有機汙染物被吸附於活性炭的微孔（kǒng）之中，最終（zhōng）排放潔淨的氣體。
規格參數表
產品性能
高效除惡臭：能高效去除揮（huī）發性（xìng）有機（jī）物（VOC）、無（wú）機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要汙染物，以及各種惡臭味（wèi），脫臭（chòu）效率（lǜ）高，脫臭效果超過國家1993年（nián）頒布的惡臭（chòu）汙染物排放標（biāo）準（GB14554-93）。
適（shì）應性強：可適應高（gāo）濃度，大氣量，不同惡臭氣體（tǐ）物質的脫臭淨化處理，可每（měi）天24小（xiǎo）時連續工（gōng）作，運行（háng）穩（wěn）定（dìng）可靠。
運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管（guǎn）理和（hé）日常維護，隻需作定期（qī）檢查，本設備能耗低，設備風阻低，可節（jiē）約大量排風（fēng）動力能耗。
無需溫濕度（dù）處理（lǐ）：惡臭氣體無需進行（háng）特殊（shū）的預處（chù）理，如加溫、加濕等，設備工作環境（jìng）溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度（dù）在40%－98%之（zhī）間均可正常工作。
設備占地（dì）麵積小，自重輕：適合（hé）於布置緊（jǐn）湊、場地狹小等特殊條件。
較優質材料製造（zào）：防火、防腐蝕性能高，性能穩定，使用壽命長。
環（huán）保高科技產品：通過專家及我公司工（gōng）程技術人員長期反複的試驗（yàn），開發研製出的，可分解惡臭氣體（tǐ）中有毒有害物（wù）質，並能達到想要的脫臭效果（guǒ），經分解後的惡臭氣體（tǐ），可達到無害化排放，不產生二次汙染，同時達到高（gāo）效消毒殺菌的作用。
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