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淨（jìng）化原理
廢氣在設備內（nèi）通過具有一定能量的光照射，光敏半導體材料即被光激發出電子（zǐ） - 空穴對，吸附在 光敏半導體（tǐ）表麵的溶解氧、水及汙（wū）染物分子接受光生電（diàn）子或空穴，從而發生一係列的氧化還原反應，使汙（wū）染物降解為二氧化碳（tàn）和水等物質。在外加紫（zǐ）外線的作用下，介質放電產生大量攜能電子轟擊汙染物分 子，使其電離、解離和激發，然（rán）後便引發一係列複雜的物（wù）理、化學反應，使複雜的大分子汙染物轉變（biàn）為 簡單小分子安全物質，從而使汙染物得以降解去除。然後極小部分未被裂解的汙染物進入活性炭吸附床， 有機汙染物被吸附（fù）於活（huó）性炭的微孔（kǒng）之中（zhōng），最終排（pái）放（fàng）潔淨的氣體。
規格參數表
產品性能
高效除惡臭：能高效（xiào）去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣（qì）、硫醇類等主要汙染物，以及各種惡臭味，脫（tuō）臭效率高，脫臭效果超過（guò）國家1993年頒布的惡臭汙染（rǎn）物（wù）排放標準（GB14554-93）。
適（shì）應性強：可適應（yīng）高濃度，大（dà）氣量，不同惡臭氣（qì）體物（wù）質的脫臭淨化處（chù）理，可每天24小時連（lián）續工作，運行穩定可靠。
運行成本低：本設備（bèi）無任何機械動（dòng）作，無噪（zào）音，無需專人管理和日常維護，隻需（xū）作定期檢查，本（běn）設備能耗低，設備風阻低，可節（jiē）約大量排（pái）風動力能耗。
無需溫濕度處理（lǐ）：惡臭氣體無需進行特殊（shū）的預處理，如加溫、加濕等，設（shè）備（bèi）工作環境溫度在攝氏-30°－95°之（zhī）間，濕度在40%－98%之間均可正（zhèng）常工作。
設備占地麵積小，自重輕：適合於布置緊湊、場地狹小等特（tè）殊條件。
較優質材料（liào）製（zhì）造：防（fáng）火、防腐蝕性能高，性能穩定（dìng），使用壽（shòu）命長。
環保高科技產品：通過專家及我公司工程技術人（rén）員長期反複的試驗，開發（fā）研製出的，可分解惡臭氣體中有（yǒu）毒有害（hài）物質，並能達到想（xiǎng）要的脫臭效果，經分解後（hòu）的惡臭氣（qì）體，可達到無害化排放，不產生二次汙染，同時達到高效消（xiāo）毒殺菌的作用。
