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淨化原理(lǐ)
廢(fèi)氣在設備內通過具有一定能(néng)量的(de)光照射,光敏半導體材料即被光激發出電子 - 空穴對,吸附在 光敏半導體表麵的溶解氧、水及汙染物分(fèn)子接受光生(shēng)電子或空穴,從而發生一係列的氧化還原反應,使汙染物降解為二氧化碳和水等物質。在外加紫外線的作用(yòng)下,介質放電產(chǎn)生大量攜能電子轟擊汙(wū)染物分 子,使其(qí)電離(lí)、解離和激發,然後便引發一係列複雜的物理、化學反應,使複雜的大分子汙染(rǎn)物轉(zhuǎn)變為 簡單(dān)小分子安全物質,從而使汙染(rǎn)物得以降解去除。然後極小部(bù)分未被裂解(jiě)的汙染(rǎn)物進入活性炭吸附床, 有機汙染物被吸附於活性炭的微孔之中,最終排放潔淨的氣體。
規格參數表
產品性能
高效除惡臭:能高效去(qù)除(chú)揮發性有機物(VOC)、無機物、硫化氫(qīng)、氨氣、硫醇類等主要汙染物,以及各種惡臭味,脫臭效率高,脫臭效果超過國家1993年頒布的惡臭汙(wū)染物排放標(biāo)準(GB14554-93)。
適應性強:可適(shì)應高濃度(dù),大氣量(liàng),不同惡臭(chòu)氣體物質的脫臭淨化處理,可每天24小時連續工作,運行穩定可靠。
運行成本低:本設備無任何機械動作,無噪音,無需專人管理(lǐ)和日常維護,隻需作定(dìng)期檢查(chá),本設備(bèi)能耗低,設備風阻低,可節約大量排風動力能耗。
無(wú)需溫濕度(dù)處(chù)理:惡臭氣體無需進行特殊的(de)預處理,如加溫、加(jiā)濕等,設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30°-95°之間,濕度在40%-98%之間均可正常(cháng)工作(zuò)。
設備占地麵積小,自重輕:適合於布置緊湊、場地狹小等特(tè)殊條件。
較優質材(cái)料製(zhì)造:防火、防腐蝕(shí)性能高,性能穩定,使用壽命長。
環保高科技產品:通過專家及我(wǒ)公司工程技術人員長期反複的(de)試驗,開發研製出的,可分解惡臭氣體中(zhōng)有毒有害物質,並能達到想要的脫臭效果,經(jīng)分解後的惡臭氣體,可達到無害化排放,不(bú)產生二(èr)次汙染(rǎn),同(tóng)時達到高效消毒殺菌的作用。