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淨（jìng）化原理
廢氣在設備內通（tōng）過具有（yǒu）一定能量的光照（zhào）射，光敏半導體材料即被光激發出電子 - 空穴對，吸（xī）附在 光（guāng）敏半導體表麵（miàn）的溶解氧、水及汙染物分子接受（shòu）光生電子或空穴，從而發生一（yī）係列的氧化還原反應，使汙染物降解為二氧化（huà）碳和水等物質。在（zài）外加紫外（wài）線（xiàn）的作用下（xià），介質放電產生大量攜能電（diàn）子轟擊汙染物分 子，使其電離、解離和激發，然後便引（yǐn）發一（yī）係列複雜（zá）的物理、化學反應，使（shǐ）複雜的大分子（zǐ）汙染物轉變為 簡單小分子安（ān）全（quán）物質，從而使汙染物得以降解去除。然後極小（xiǎo）部（bù）分未被裂解的汙染物進入活性炭吸附床， 有機汙染物被吸附於活（huó）性（xìng）炭的微孔之中，最（zuì）終排放潔淨的（de）氣體。
規格參（cān）數表
產品性能
高效（xiào）除惡（è）臭：能高（gāo）效去除揮發性有機物（wù）（VOC）、無機物（wù）、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要汙（wū）染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，脫臭（chòu）效果超過國家1993年頒布的惡臭（chòu）汙染（rǎn）物排放標準（GB14554-93）。
適應性強：可適應高濃度，大氣量，不（bú）同惡臭氣體物（wù）質的脫臭淨化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。
運行成本低：本設（shè）備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，隻需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻低，可節（jiē）約（yuē）大量排風動力能耗。
無需溫（wēn）濕度處理：惡臭氣體無（wú）需進行特殊的預處理，如加溫（wēn）、加濕等，設備工作環境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。
設備占地麵積小，自重輕：適合於布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
較優質（zhì）材料製造：防火、防腐蝕性能高，性能穩定，使用壽命長。
環保高科技產品：通過專家及我公司（sī）工程技術人員長期反複的試驗，開發研製出（chū）的，可（kě）分解（jiě）惡臭（chòu）氣體中有毒有害（hài）物質，並能達到想要的（de）脫臭效果，經分解後的惡臭氣體，可達到無害化排放，不產生二次汙染，同時達到高效消毒殺菌的作用（yòng）。
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