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淨化原理(lǐ)
廢(fèi)氣在設備內(nèi)通過具有一定能量的光照射,光敏半導體材料(liào)即被光激發出電子 - 空穴對,吸附在 光敏(mǐn)半導體表麵的溶解氧、水及汙染物分子接受光生電子或空穴,從而發生一(yī)係列(liè)的氧化還原反應,使汙染物降解為二氧化碳和水等物(wù)質。在外加紫外線的作用下,介質放電產生大量攜能電子轟擊汙染(rǎn)物分 子,使其電離、解離(lí)和激發,然後便引(yǐn)發一係列複雜的物理、化學反(fǎn)應,使複雜的大分子汙染(rǎn)物轉變為 簡(jiǎn)單小分子(zǐ)安全物質,從而(ér)使汙染物得以降解(jiě)去(qù)除。然後極小(xiǎo)部分未被裂解的汙染物進入活性(xìng)炭吸附床, 有(yǒu)機汙染物被吸附於活性炭的微孔之中,最終排(pái)放潔淨的氣體。
規格(gé)參(cān)數表
產品性能
高效(xiào)除惡臭:能高效(xiào)去除揮發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨(ān)氣、硫醇(chún)類等主要汙染物,以及各種惡臭味,脫臭效率高,脫(tuō)臭效果超過國家1993年頒布的(de)惡臭汙染物排放(fàng)標準(GB14554-93)。
適應性(xìng)強:可適應高濃度(dù),大氣量,不同惡臭氣體物(wù)質的(de)脫(tuō)臭淨化處理,可每天(tiān)24小時連續工作,運行穩定可靠(kào)。
運行成本低:本設(shè)備無任何機械動作,無噪(zào)音(yīn),無(wú)需專人管理和(hé)日常維護,隻需(xū)作定期檢查,本設備能耗(hào)低,設備風阻低(dī),可節約大量排(pái)風動力能耗。
無需溫濕度處理:惡臭氣體無(wú)需(xū)進行特殊的預處理,如加溫、加濕等(děng),設備工(gōng)作環境溫度在攝氏-30°-95°之間,濕度在40%-98%之間均(jun1)可正(zhèng)常工(gōng)作。
設備占地麵積小(xiǎo),自(zì)重輕:適合(hé)於布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
較優質材料製造:防火、防腐蝕性(xìng)能高(gāo),性能穩定,使用壽命長。
環保高科技產(chǎn)品:通過專家及我公(gōng)司工程技術人員長期反複的試(shì)驗,開發(fā)研製出的,可分解惡臭氣體中有毒有害物質,並能達到想(xiǎng)要的脫臭效果,經(jīng)分解後的惡臭氣體,可達到無害化排放,不(bú)產生二次汙染(rǎn),同時達(dá)到高效消毒殺菌(jun1)的作用。